| 圖 片 |
設備名稱 |
制造商 |
型號 |
年份 |
詳細配置 |
狀 態 |
 |
NIKON NSR 1755i7B光刻機 |
NIKON |
NSR-1755i7B |
1991 |
6"設備完整不缺件,上海凈化車間; |
國內
|
 |
JEOL JBX-8100FS G3電子束光刻機 |
JEOL |
JBX-8100FS G3 |
2024 |
設備完整不缺件,無塵室關機狀態,100KV;
配置清單: |
國內
|
 |
CANON EL3400濺射裝置 |
CANON |
EL3400 |
- |
設備完整不缺件在日本剛下線,滿足插入式Fan-Out等下一代高密度 |
國外
|
 |
KLA EDR-7380缺陷檢測設備 |
KLA |
EDR-7380 |
- |
12"設備完整不缺件300mm; |
國外
|
|
SCREEN SOKUDO RF-310A系統 |
SCREEN / SOKUDO |
RF-310A |
2014 |
設備完整不缺件,2014年380萬美元購買; |
國外
|
|
TSK ML200鐳射切割機 |
TSK |
ML200 |
2006 |
設備完整不缺件,質保6個月+30W,質保12個月+70W; |
國內
|
|
CANON FPA-3000i5步進式光刻機 |
CANON |
FPA-3000i5 |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
 |
TOK TCA3822光刻機 |
TOK |
TCA3822 |
2008 |
8"設備完整不缺件,有6臺現貨(年份1996,2006,2008年 |
國外
|
|
Mattson AspenⅡ光刻機 |
Mattson |
AspenⅡ |
1997/2018 |
設備完整不缺件,有2臺現貨(年份1997,2018年); |
國外
|
|
CANON MAS-801HR光刻機 |
CANON |
MAS-801HR |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
CANON MAS-8000光刻機 |
CANON |
MAS-8000 |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
USHIO UX-4486SC光刻機 |
USHIO |
UX-4486SC |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
ULTRATECH AP300光刻機 |
ULTRATECH |
AP300 |
2009 |
12"設備完整不缺件,在美國; |
國外
|
|
CANON FPA-5500iZa光刻機 |
CANON |
FPA-5500iZa |
2006 |
12"設備完整不缺件,有9臺現貨; |
國外
|
|
CANON FPA-1550M4W光刻機 |
CANON |
FPA-1550M4W |
1995 |
6"設備完整不缺件; |
國外
|
|
ASML PAS 5500/100D光刻機 |
ASML |
PAS5500/100D |
1996 |
設備完整不缺件,有2臺現貨; |
國外
|
|
HITACHI S-9380掃描電子顯微鏡 |
HITACHI |
S-9380 |
2004 |
設備完整不缺件； |
國外
|
|
ULVAC SME 200濺射臺 |
ULVAC |
SME-200 |
2005 |
設備完整不缺件； |
國外
|
|
ULVAC CV-200氣相沉積設備 |
ULVAC |
CV-200 |
2005 |
6"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT ENDURA HP氣相沉積設備 |
AMAT |
ENDURA HP |
2004 |
8"設備完整不缺件,有2臺現貨; |
國外
|
|
ACCRETECH UF3000探針臺 |
ACCRETECH東京精密 |
UF3000 |
- |
設備完整不缺件,有7臺現貨; |
國外
|
|
TEL P-8探針臺 |
TEL |
P-8 |
1994/1997 |
8"設備完整不缺件,有3臺現貨(年份1994,1997年); |
國外
|
|
TEL P-12XLn+探針臺 |
TEL |
P-12XLn+ |
2007 |
設備完整不缺件,有2臺現貨； |
國外
|
|
Agilent 4072B測試系統 |
Agilent |
4072B |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
TERADYNE UltraFLEX DC測試系統 |
TERADYNE |
UltraFLEX DC |
2020 |
設備完整不缺件,有5臺現貨; |
國外
|
|
TERADYNE MicroFlex測試系統 |
TERADYNE |
MicroFlex |
2008 |
設備完整不缺件,有4臺現貨; |
國外
|
|
TERADYNE J750測試系統 |
TERADYNE |
J750 |
- |
設備完整不缺件,有3臺現貨; |
國外
|
|
KEITHLEY S450測試系統 |
KEITHLEY |
S450 |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
ADVANTEST T6577測試系統 |
ADVANTEST |
T6577 |
- |
設備完整不缺件,有8臺現貨; |
國外
|
|
ADVANTEST T2000 AiR測試系統 |
ADVANTEST |
T2000 AiR |
- |
設備完整不缺件； |
國外
|
|
TEL ALPHA-303i LPCVD |
TEL |
ALPHA-303i |
2006 |
12"設備完整不缺件,有2臺現貨; |
國外
|
|
HITACHI DJ-1206VN-DM LPCVD |
HITACHI |
DJ-1206VN-DM(Quixace1-ALDINNA) |
2006 |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI DJ-1206V-DF LPCVD |
HITACHI |
DJ-1206V-DF(Quixace2) |
2007 |
12"設備完整不缺件,有2臺現貨; |
國外
|
|
HITACHI DJ-1206V-DF LPCVD |
HITACHI |
DJ-1206V-DF(Quixace1) |
2006/2007 |
12"設備完整不缺件,有2臺現貨(年份2006,2007年); |
國外
|
|
SEN NV-MC3離子注入機 |
SEN |
NV-MC3 |
2009 |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AXCELIS NV-GSD-A-80離子注入機 |
AXCELIS |
NV-GSD-A-80 |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT VIISta HC離子注入機 |
AMAT |
VIISta HC |
- |
設備完整不缺件； |
國外
|
|
SANYO IR-EPOCH5500測量設備 |
SANYO |
IR-EPOCH5500 |
2009 |
6"設備完整不缺件; |
國外
|
|
RUDOLPH Matrix S200測量設備 |
RUDOLPH |
Matrix S200 |
2008 |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
OTHER Mentor DF3-SE測量設備 |
OTHER |
Mentor DF3-SE |
- |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
Nanometrics M5100測量設備 |
Nanometrics |
M5100 |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
N&K 3300測量設備 |
N&K |
3300 |
2003 |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
KLA STARLIGHT301(300SL)測量設備 |
KLA |
STARLIGHT301(300SL) |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
KLA SP1-TBI測量設備 |
KLA |
SP1-TBI |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
KLA SCD-XT測量設備 |
KLA |
SCD-XT |
- |
12"設備完整不缺件,有3臺現貨; |
國外
|
|
KLA Archer A300 AIM測量設備 |
KLA |
Archer A300 AIM |
2010 |
設備完整不缺件,日本倉庫中； |
國外
|
|
HITACHI VR-70測量設備 |
HITACHI |
VR-70 |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI VR-120測量設備 |
HITACHI |
VR-120 |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS VM-2210測量設備 |
DNS |
VM-2210 |
2008/2014 |
8"設備完整不缺件,有兩2臺現貨(年份2008,2014年); |
國外
|
|
DNS VM-2110測量設備 |
DNS |
VM-2110 |
2007 |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
ASML CYMER XLA140光刻機 |
ASML |
XLA140 |
2003 |
設備完整不缺件,無法賣往中國； |
國外
|
|
ASYST SMIF LOADER晶圓傳輸設備 |
ASYST |
SMIF LOADER |
- |
設備完整不缺件； |
國外
|
|
SAMCO RIE-331LC刻蝕機 |
SAMCO |
RIE-331LC |
2013 |
設備完整不缺件； |
國外
|
|
SAMCO RIE-230LC刻蝕機 |
SAMCO |
RIE-230LC |
- |
設備完整不缺件； |
國外
|
|
HITACHI U-702A刻蝕機 |
HITACHI |
U-702A |
2004/2009 |
12"設備完整不缺件,有2臺現貨(年份2004,2009年); |
國外
|
|
HITACHI M-712刻蝕機 |
HITACHI |
M-712 |
2006 |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI M-631刻蝕機 |
HITACHI |
M-631 |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI M-531AE刻蝕機 |
HITACHI |
M-531AE |
1996 |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI M-501AW刻蝕機 |
HITACHI |
M-501AW |
2000 |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI M-318SX刻蝕機 |
HITACHI |
M-318SX |
1993 |
6"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI M-318NX刻蝕機 |
HITACHI |
M-318NX |
1995 |
6"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI M-308AT刻蝕機 |
HITACHI |
M-308AT |
1999 |
6"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Centura-DPS刻蝕機 |
AMAT |
Centura-DPS |
2007 |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Centura AP-DPS刻蝕機 |
AMAT |
Centura AP-DPS |
2005 |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL TELINDY I-RAD擴散爐 |
TEL |
TELINDY I-RAD |
2008 |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI DD-853V擴散爐 |
HITACH |
DD-853V |
- |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI DD-1206VN-DM擴散爐 |
HITACH |
DD-1206VN-DM |
2004 |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
DISCO DFD6341劃片機 |
DISCO |
DFD6341 |
- |
設備完整不缺件,有19臺現貨; |
國外
|
|
DISCO DFD6340全自動切割機 |
DISCO |
DFD6340 |
- |
設備完整不缺件,有11臺現貨; |
國外
|
|
DNS SD-W60A-AVP顯影機 |
DNS |
SD-W60A-AVP |
2013 |
4"設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL UNITY EP Parts蝕刻機 |
TEL |
UNITY EP Parts |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL UNITY EP蝕刻機 |
TEL |
UNITY EP |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL TRIAS氣相沉積設備 |
TEL |
TRIAS |
2004 |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
LAM Concept Three Speed CVD氣相沉積設備 |
LAM |
Concept Three Speed |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI KV-J888 |
HITACHI |
KV-J888 |
2013 |
8"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT Chamber |
- |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Centura WxZ刻蝕機 |
AMAT |
Centura WxZ |
2000 |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL MARK VZ涂膠顯影機 |
TEL |
MARK VZ |
- |
6"設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL LITHIUS涂膠顯影機 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
12"設備完整不缺件,有34臺現貨(年份2005年8臺,2006年 |
國外
|
|
TEL ACT8涂膠顯影機 |
TEL |
ACT8 |
- |
6"設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS RF3(RF-300A)化學氣相沉積 |
DNS |
RF3(RF-300A) |
2006 |
12"設備完整不缺件,有6臺現貨; |
國外
|
|
KLA Surfscan SP2晶圓檢測系統 |
KLA |
SP2 |
- |
設備完整不缺件,有2臺現貨; |
國外
|
|
DNS HP-60BW-AV晶圓清洗設備 |
DNS |
HP-60BW-AV |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Reflexion miniship LK機械拋光設備 |
AMAT |
Reflexion miniship LK |
- |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
Horiuchi MSEA601S-S001粘合機 |
Horiuchi |
MSEA601S-S001 |
- |
設備完整不缺件,有6臺現貨; |
國外
|
|
Nordson AP-300A等離子清洗機 |
Nordson |
AP-300A |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
NITTO HR8500II撕膜機 |
NITTO |
HR8500II |
- |
設備完整不缺件; |
國內
|
|
KLA Surfscan SP2晶圓檢測系統 |
KLA |
SP2 |
- |
設備完整不缺件,有2臺現貨; |
國內
|
|
POWATEC Wafer Mounter晶圓貼片機 |
POWATEC |
Wafer Mounter |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
FOUR Dimensions CVMAP 3092-A測試儀 |
FOUR Dimensions |
CVMAP 3092-A |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
NC-80E-12量測設備 |
- |
NC-80E-12 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
KLA ES31量測設備 |
KLA |
ES31 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DAITO BN3-S54光刻機 |
DAITO |
BN3-S54 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DANTAKUMA DT-1600光刻機 |
DANTAKUMA |
DT-1600 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DANTAKUMA DT-1600光刻機 |
DANTAKUMA |
DT-1600 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻機 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻機 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻機 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻機 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻機 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻機 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL UNITY2e-855DD干式蝕刻機 |
TEL |
UNITY2e-855DD |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL Telius SP-Vesta干式蝕刻機 |
TEL |
Telius SP-Vesta |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TECHNOS TREX610光譜儀 |
TECHNOS |
TREX610 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
PHILIPS PW2800X-Ray檢測設備 |
PHILIPS |
PW2800 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TYK NEL-HR8500尾氣處理設備 |
TYK |
NEL-HR8500 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS FL-820L濕法處理設備 |
DNS |
FL-820L |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS FL-820L濕法處理設備 |
DNS |
FL-820L |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS FC-821L濕法處理設備 |
DNS |
FC-821L |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
APPRECIA ExcaliburISR濕法處理設備 |
APPRECIA |
ExcaliburISR |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL UW8000濕法處理設備 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL UW8000濕法處理設備 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL UW300Z濕法處理設備 |
TEL |
UW300Z |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
HUGLE UPC12000R濕法清洗設備 |
HUGLE |
UPC12000R |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SET VRC-200T清洗設備 |
SET |
VRC-200T |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SS-W60A-AR清洗設備 |
DNS |
SS-W60A-AR |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
K&S 8060封裝設備 |
K&S |
8060 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TAKIMOTO TTS-6500WT超聲波清洗機 |
TAKIMOTO |
TTS-6500WT |
- |
5"設備完整不缺件; |
國外
|
|
KOKUSAI VR120S晶圓表面檢測設備 |
KOKUSAI |
VR120S |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI KOKUSAI VR-120晶圓表面檢測設備 |
HITACHI KOKUSAI |
VR-120 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI KOKUSAI VR-30B晶圓表面檢測設備 |
HITACHI KOKUSAI |
VR-30B |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TOPCON WM-5000晶圓表面檢測設備 |
TOPCON |
WM-5000 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TENCOR Step Guage Αstep晶圓表面檢測設備 |
TENCOR |
Step Guage(Αstep) |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
NIDEK IM-7晶圓表面檢測設備 |
NIDEK |
IM-7 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
NIDEK IM-7晶圓表面檢測設備 |
NIDEK |
IM-7 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
RIGAKU SYS-3630晶圓表面檢測設備 |
RIGAKU |
SYS-3630 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
KLA 2131晶圓表面檢測設備 |
KLA |
2131 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
KLA FLX2908晶圓表面檢測設備 |
KLA |
FLX2908 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
KLA SF4500晶圓表面檢測設備 |
KLA |
SF4500 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TOKYO AIRCRAFT MAC-92晶圓表面檢測設備 |
TOKYO AIRCRAFT |
MAC-92 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
NONE WS-211-4-STA晶圓分選機 |
NONE |
WS-211-4-STA |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
NONE WS-211-4-FA晶圓分選機 |
NONE |
WS-211-4-FA |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
RAMGRABER RAMOS300-SST晶圓分選機 |
RAMGRABER |
RAMOS300-SST |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
BROOKS MTX2000/2晶圓分選機 |
BROOKS |
MTX2000/2 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
ROTHSE RR6141晶圓分選機 |
ROTHSE |
RR6141 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SEIWA WT256FS晶圓定位系統 |
SEIWA |
WT256FS |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SEIWA WT256FS晶圓定位系統 |
SEIWA |
WT256FS |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SS-3000晶圓清洗機 |
DNS |
SS-3000 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
KLA AWUS3110晶圓探針臺 |
KLA |
AWUS3110 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
LH800 LH800晶圓鍵合機 |
LH800 |
LH800 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
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|
INNOLAS GMBH C3000DPS晶圓打標機 |
INNOLAS GMBH |
C3000DPS |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
OLYMPAS AL110 + MX61晶圓裝卸機 |
OLYMPAS |
AL110 + MX61 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
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|
TORAY INSPECTRA 100EX晶圓檢測設備 |
TORAY |
INSPECTRA 100EX |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
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|
ASYST LPT2200晶圓裝卸機 |
ASYST |
LPT2200 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
VERTEX VERTEX-3 DD-803氣相沉積設備 |
VERTEX |
VERTEX-3 DD-803 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
USHIO UMA-802-HC551NW紫外線固化設備 |
USHIO |
UMA-802-HC551NW |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
USHIO UMA-802-HC551NW紫外線固化設備 |
USHIO |
UMA-802-HC551NW |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
HORIBA UT-300薄膜測量設備 |
HORIBA |
UT-300 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TERADYNE MAGNUM1-PV測試機 |
TERADYNE |
MAGNUM1-PV |
1996 |
300mm設備完整不缺件,設備在韓國; |
國外
|
|
TEL ACT8 2C2D涂膠顯影機 |
TEL |
ACT8 2C2D |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL MARK 7涂膠顯影機 |
TEL |
MARK 7 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
KLA UV1250SE薄膜測量系統 |
KLA |
UV1250SE |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
ADVANTEST T5334測試檢測設備 |
ADVANTEST |
T5334 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
YAMADA FTOR3測試檢測設備 |
YAMADA |
FTOR3 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TESEC 3701-ＴＴTT tester測試檢測設備 |
TESEC |
3701-ＴＴTT tester |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TESEC 3701-ＴＴTT tester測試檢測設備 |
TESEC |
3701-ＴＴTT tester |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SHIBASOKU WL25測試檢測設備 |
SHIBASOKU |
WL25 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SHIBASOKU WL25測試檢測設備 |
SHIBASOKU |
WL25 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS STM-603-PLS存儲設備 |
DNS |
STM-603-PLS |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
NITTO TL-1鍵合機 |
NITTO |
TL-1 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TAKATORI ATM-2100貼膜機 |
TAKATORI日本高鳥 |
ATM-2100 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TAKATORI ATM-1100B貼膜機 |
TAKATORI日本高鳥 |
ATM-1100B |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TAKATORI ATM-1100B貼膜機 |
TAKATORI日本高鳥 |
ATM-1100B |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
OLYMPAS MX-50A + AL110 + FD-120M顯微鏡 |
OLYMPAS |
MX-50A + AL110 + FD-120M |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TORAY SP-500B顯微鏡 |
TORAY |
SP-500B |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
VEECO DEK-TAK 8000檢測系統 |
VEECO |
DEK-TAK 8000 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
LYON KL-22浸沒式粉塵儀 |
LYON |
KL-22 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
LYON KL-25浸沒式粉塵儀 |
LYON |
KL-25 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
Mattson Aspen III ICP等離子去膠機 |
Mattson |
Aspen III ICP |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
CANON Surpass 320等離子去膠機 |
CANON |
Surpass 320 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
CANON Surpass 320等離子去膠機 |
CANON |
Surpass 320 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
NIKON NSR i12D光刻機 |
NIKON |
NSR-i12D |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TRIKON SIGMA2000光刻機 |
TRIKON |
SIGMA2000 |
- |
4"設備完整不缺件; |
國外
|
|
TEL PR200Z旋涂儀 |
TEL |
PR200Z |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
KOKUSAN G-6甩干機 |
KOKUSAN |
G-6 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
NONE PALS DP2200SI接觸式曝光機 |
NONE |
PALS DP2200SI |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
YOKOGAWA TS600芯片測試機 |
YOKOGAWA |
TS600 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
TOPCON DS-720掃描電子顯微鏡 |
TOPCON |
DS-720 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI S-5000掃描電子顯微鏡 |
HITACHI |
S-5000 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI IS3200SE掃描電子顯微鏡 |
HITACHI |
IS3200SE |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI I-5320N掃描電子顯微鏡 |
HITACHI |
I-5320N |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
HITACHI RS-3000掃描電子顯微鏡 |
HITACHI |
RS-3000 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
SCREEN SS-W80A-AR尾氣處理設備 |
SCREEN |
SS-W80A-AR |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
Inhouse WS-5020尾氣處理設備 |
Inhouse |
WS-5020 |
- |
5"設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SPW-813A處理設備 |
DNS |
SPW-813A |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SC-200W涂膠顯影機 |
DNS |
SC-200W |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SDW-629-BV(P)顯影機 |
DNS |
SDW-629-BV(P) |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SDW-629-BV(P)顯影機 |
DNS |
SDW-629-BV(P) |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SSW-60A-AR尾氣處理設備 |
DNS |
SSW-60A-AR |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SSW-629B尾氣處理設備 |
DNS |
SSW-629B |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SSW-60A-AR尾氣處理設備 |
DNS |
SSW-60A-AR |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
DNS SSW-629B尾氣處理設備 |
DNS |
SSW-629B |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
EBARA GDC250A晶圓清洗設備 |
EBARA |
GDC250A |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
EBARA GDC250SA晶圓清洗設備 |
EBARA |
GDC250SA |
- |
設備完整不缺件; |
國外
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|
EBARA GDS250SA晶圓清洗設備 |
EBARA |
GDS250SA |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
EBARA GDS500SA晶圓清洗設備 |
EBARA |
GDS500SA |
- |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
NIKON NSR SF130光刻機 |
NIKON |
NSR-SF130 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
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|
NIKON S307光刻機 |
NIKON |
S307 |
- |
設備完整不缺件; |
國外
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|
HITACHI S-8820掃描電子顯微鏡 |
HITACHI |
S-8820 |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
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|
LEICA/VISTEC MIS-200圓缺陷檢測設備 |
LEICA/VISTEC |
MIS-200 |
- |
150mm設備完整不缺件; |
國外
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