| 龍璽精密-高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)-可非標(biāo)定制 |
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要由鍍膜腔室(500xH430mm)，永磁圓形平面靶，真空系統(tǒng)，旋轉(zhuǎn)加熱基片臺(tái)，氣路系統(tǒng)，電氣控制及報(bào)警保護(hù)系統(tǒng)等組成。
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要由真空專(zhuān)用不銹鋼腔室、四只3英寸圓形平面磁控靶，直流、射頻濺射電源各一臺(tái)。機(jī)械泵+分子泵高真空系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)、加熱基片臺(tái)(室溫至300±1℃可調(diào)可控)、機(jī)架、氣路、水路、邏輯按鈕控制及安全保護(hù)等組成。該設(shè)備選配電源可具備四靶共濺射功能，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用，可開(kāi)發(fā)納米級(jí)單層或多層的導(dǎo)電膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜等。
整機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊、占地小、操作方便、抽真空速度快。
|
